Ekiponan di Plasma RF pa Aplikashonnan di Semikonduktor

Manda Enkuesta

Deskripshon di produktonan

E Ekipo di Plasma RF pa Aplikashonnan di Semikonduktor ta un unidat di limpiesa spesialisá diseñá pa prosesonan avansá di empaketahe di semikonduktor i tratamentu di superfisie. E ekipo ta konta ku un gabinete robusto trahá di staal di kalidat haltu, kaba ku un kapa di polvo di tekstura di riñon- na blanku, ku ta proveé tantu durabilidat komo un aparensia industrial limpi. Su kamber di vakuo prinsipal ta fabriká for di plachinan di aluminio di puresa haltu ku un diki di no ménos ku 25 mm, garantisando un rendimentu di seyamentu ekselente i stabilidat struktural a largu plaso. E dimenshonnan di e kamber interno ta 450 × 450 × 450 mm, ekipá ku un plachi di elektroda di un pida kompletamente será ku ta midi 410 × 430 mm. E makutunan di trabou ta wòrdu poné direktamente riba e plachi di elektroda, ku ta konektá na e base di elektroda di koper a traves di un diseño di plug-in, garantisando generashon di plasma efisiente i stabil durante operashon.

E sistema ta wòrdu kontrolá pa un plataforma PLC, ku ta pèrmití kambio sin problema entre e modonan manual i kompletamente outomátiko. Tur parameter di operashon por wòrdu konfigurá, ahusta, warda i monitoriá den tempu real. Un buèlta di kòntròl PID integral ta mehorá mas ainda stabilidat i presishon. Resetanan di proseso múltiple por wòrdu wardá i rekordá segun nesesidat, loke ta partikularmente útil pa ambientenan ku ta rekerí kambionan di proseso frekuente. E sistema di vakuo ta wòrdu impulsá pa un sèt di pòmp seku, ku ta proveé un velosidat di pompmentu rápido, ku e kamber tipikamente ta alkansá e nivel di vakuo nesesario denter di 100 sekònde.

RF Plasma Equipment inside for Semiconductor Applications

Spesifikashonnan tékniko klave ta inkluí un frekuensha di plasma di 13.56 MHz, ku poder di RF kontinuamente ahustabel di 0 pa 600 W. E suministro di koriente prinsipal ta wòrdu klasifiká na 380 V AC (±10%), 50/60 Hz, tres-fase sinku-sistema di waya, i e konsumo total di ekipo ta ménos ku 3 kW. Fluho di gas por wòrdu regulá presis entre 0 i 200 ml/min pa sostené un rango amplio di rekisitonan di proseso.

Pa loke ta trata aplikashon, e ekipo ta hunga un ròl krusial den empaketamentu di semikonduktor, partikularmente promé ku e pegamentu di waya (W/B). Limpiesa di plasma ta kita residuonan orgániko for di e chip pads, ta aktivá e superfisie i ta mehorá e muhabilidat. Komo resultado, e adheshon di e waya di pega ta mehorá, e forsa di e pega ta oumentá, i e riesgo di destakamentu ta wòrdu redusí signifikantemente. E sistema ta sostené tantu prosesamentu multikapa komo kargamentu di estilo di kasete-, loke ta permití fabrikantenan pa adaptá e hèrmènt na diferente eskala i rekisito di produkshon.

Ku su diseño di kamber robusto, kontrol di presishon, i kapasidatnan di proseso fleksibel, e ekipo di plasma RF aki ta ofresé un solushon konfiabel i efisiente pa logra resultadonan di tratamentu di superfisie di kalidat haltu i ripitibel den fabrikashon di semikonduktor.

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